第201章 我要做慈善
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估摸着，他要是真这么做，到时候不被人当成疯子就是当成骗子！
而且，做慈善也不是那么好做的！
比方说捐建一所学校，要地皮吧？
地皮要地方审批吧？
位置要规划吧，做到合理利用吧？
万一有些小鬼伸手要好处，不给就找麻烦，怎么办？？
等等等等……
赵岂年可以计划慈善，也可以花钱去做，但是让他亲自去做，他可没辙！
为此，赵岂年专门找了赵龙腾，把计划说了出来，想找点关系！
“慈善，要花在该花的地方，不能遍地开花！”
“你的计划固然好，目的也值得赞扬，但是，没有相关人员的支持，也很难做！”
“这样吧，我帮你看看吧，有没有合适人才，帮你挖几个！”
赵岂年：“这感情好，那就多谢你老人家了！”
赵龙腾看着赵岂年：“你准备捐多少？”
赵岂年：“起码捐建个一千所学校吧？”
“咳咳……”，赵龙腾被嘴里的水呛到了，“你知道一千所要多少钱吗？”
“涉及到多少事吗？”
“光刻机和芯片已经进入了关键时期，非常缺钱，我认为应该有所侧重！”
“慈善，要量力而行，一旦光刻机和芯片成功，到时候你才真正有钱去做更多的慈善！”
赵岂年点了点头！
慈善，花的是钱，没钱，想做都做不了！
“行，我先慢慢做着，不着急！”
赵龙腾点了点头：“嗯！不说慈善了，说说光刻机！”
“光刻机到了关键时刻，我们已经快速攻克了130纳米，并且又顺利在之前的光刻机上改进出了90纳米光刻机，但是在65纳米光刻机的改进上，我们卡住了！”
对于光刻机技术来说，90纳米是一个技术台阶；45纳米是一个技术台阶；22纳米是一个技术台阶！
从193升级到130纳米，再到90 纳米！
90纳米的技术升级到65纳米都不难，难在45纳米上！！
前几年，国内的光刻机技术因为技术本身的壁垒，其实和国外在一个起跑线上！
1965年，国内自主研制的第一块单片集成电路在魔都诞生。
我国步入集成电路时代仅比米国晚了7年，可是比h国早10年。
1977年，gk-3型半自动光刻机诞生！
197年，1445所在gk-3的基础上开发了gk-4，把加工圆片直径从50毫米提高到75毫米！
191年，中科院半导体所研制jk-1型半自动接近式光刻机，研制成功两台样机。
米国在20世纪50年代就已经拥有了接触式光刻机，期间相差了二十几年。
1979年，机电部45所开展了分步光刻机的研制，对标的是米国的400dsw。
195年，研制出了样机，通过电子部技术鉴定，认为达到400dsw的水平。
这是中国第一台分步投影式光刻机，采用的是436纳米g线光源，与国外的差距不超过7年！
1990年3月，中科院光电所研制的ioe1010g直接分步重复投影光刻机样机通过评议，工作分辨率125微米，主要技术指标接受米国gca000型的水平，相当于国外0年代中期水平，差距在五年！
如果不是技术封锁和专利掣肘，国内现在一定不比国外差！
本来就不比国外落后多少，而且，国内的光学技术甚至领先国际！
又加上赵岂年的原因，知道如何打破技术壁垒，一下子跑过了弯道，实现了超车！
在此基础上，再度连续突破，更是天经地义的事情！
而且，在科技界，一旦有了技术积累，在积累的基础上进行突破，会简单很多！
一旦领先，处处领先，甚至不需要担心专利的掣肘！
“被什么卡住了？？”，赵岂年思考了一会后，问道。
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估摸着，他要是真这么做，到时候不被人当成疯子就是当成骗子！
而且，做慈善也不是那么好做的！
比方说捐建一所学校，要地皮吧？
地皮要地方审批吧？
位置要规划吧，做到合理利用吧？
万一有些小鬼伸手要好处，不给就找麻烦，怎么办？？
等等等等……
赵岂年可以计划慈善，也可以花钱去做，但是让他亲自去做，他可没辙！
为此，赵岂年专门找了赵龙腾，把计划说了出来，想找点关系！
“慈善，要花在该花的地方，不能遍地开花！”
“你的计划固然好，目的也值得赞扬，但是，没有相关人员的支持，也很难做！”
“这样吧，我帮你看看吧，有没有合适人才，帮你挖几个！”
赵岂年：“这感情好，那就多谢你老人家了！”
赵龙腾看着赵岂年：“你准备捐多少？”
赵岂年：“起码捐建个一千所学校吧？”
“咳咳……”，赵龙腾被嘴里的水呛到了，“你知道一千所要多少钱吗？”
“涉及到多少事吗？”
“光刻机和芯片已经进入了关键时期，非常缺钱，我认为应该有所侧重！”
“慈善，要量力而行，一旦光刻机和芯片成功，到时候你才真正有钱去做更多的慈善！”
赵岂年点了点头！
慈善，花的是钱，没钱，想做都做不了！
“行，我先慢慢做着，不着急！”
赵龙腾点了点头：“嗯！不说慈善了，说说光刻机！”
“光刻机到了关键时刻，我们已经快速攻克了130纳米，并且又顺利在之前的光刻机上改进出了90纳米光刻机，但是在65纳米光刻机的改进上，我们卡住了！”
对于光刻机技术来说，90纳米是一个技术台阶；45纳米是一个技术台阶；22纳米是一个技术台阶！
从193升级到130纳米，再到90 纳米！
90纳米的技术升级到65纳米都不难，难在45纳米上！！
前几年，国内的光刻机技术因为技术本身的壁垒，其实和国外在一个起跑线上！
1965年，国内自主研制的第一块单片集成电路在魔都诞生。
我国步入集成电路时代仅比米国晚了7年，可是比h国早10年。
1977年，gk-3型半自动光刻机诞生！
197年，1445所在gk-3的基础上开发了gk-4，把加工圆片直径从50毫米提高到75毫米！
191年，中科院半导体所研制jk-1型半自动接近式光刻机，研制成功两台样机。
米国在20世纪50年代就已经拥有了接触式光刻机，期间相差了二十几年。
1979年，机电部45所开展了分步光刻机的研制，对标的是米国的400dsw。
195年，研制出了样机，通过电子部技术鉴定，认为达到400dsw的水平。
这是中国第一台分步投影式光刻机，采用的是436纳米g线光源，与国外的差距不超过7年！
1990年3月，中科院光电所研制的ioe1010g直接分步重复投影光刻机样机通过评议，工作分辨率125微米，主要技术指标接受米国gca000型的水平，相当于国外0年代中期水平，差距在五年！
如果不是技术封锁和专利掣肘，国内现在一定不比国外差！
本来就不比国外落后多少，而且，国内的光学技术甚至领先国际！
又加上赵岂年的原因，知道如何打破技术壁垒，一下子跑过了弯道，实现了超车！
在此基础上，再度连续突破，更是天经地义的事情！
而且，在科技界，一旦有了技术积累，在积累的基础上进行突破，会简单很多！
一旦领先，处处领先，甚至不需要担心专利的掣肘！
“被什么卡住了？？”，赵岂年思考了一会后，问道。
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