第193章 分界岭

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赵龙腾看着赵岂年,呵呵一笑,并未说什么,而是站了起来,给自己泡了壶大红袍!

        这玩意,赵龙腾金贵的很,从来不舍的给赵岂年喝!

        “你小子真是神了,居然能用计算法推算出用水可以推进光刻机的进步!”

        “虽然有点差异,但是我们成功了!”

        赵岂年早就想好了的说辞,这一次终于派上用场了!

        “这可不是我计算的,是我花高薪聘请了国外的数学家帮我计算的!”

        “油浸法在光刻机领域一直都有使用,我就想到了水是不是也可以,他们都可以折射光!”

        “然后,我就请人以油浸法的模型推算了水的可行性!”

        “我最多就是想到了,灵光一现吧…”

        赵龙腾笑了笑,没有发表看法,这个说法他实际上是接受的,不然真的解释不了!

        光刻机从出现开始,到现在,光源被卡在  193n  无法进步长达  20  年。

        这就是著名的  arf  准分子激光,包括近视眼手术在内的多种应用都应用这种激光!

        到现在,相关激光发生器和光学镜片等都比较成熟。

        就是到后来,市面上用的所有手机电脑主芯片仍旧是  193n  光源光刻出来的。

        光源卡住了,想让精度更高,只能从其他方面入手。

        伴随着光源被卡主,光刻机的精度,其实也同样被卡住!

        193纳米是一个分界岭!

        全球高科技领域,甚至是米国政府,都插手这个事情,组成了联盟!

        但是,尝试了很多方法,提出了很多解决方案,依旧没有成功!

        最后,一切都败给了工程上最简单的解决办法,在晶圆光刻胶上方加  1  厚的水。

        水可以把  193纳米的光波长折射成  134纳米!

        浸入式光刻成功翻越了  157纳米大关,直接做到半周期  65纳米!

        加上后来不断改进的高  na  镜头、多光罩、波段灵敏的光刻胶等技术,浸入式  193纳米光源的光刻机一直做到后来的7纳米!

        而按照原来的历史,2002  年浸入式  193纳米的方案才会被提出,随后  al  在一年之后才开发出样机!

        而现在,还没到2002年!!

        光刻机跨越193纳米,是无数次尝试的结果!

        赵岂年的存在,让这个方案提前了两年!

        同时,在赵岂年大量资金的推动下,国内的研究和开发要提前两年!!

        “赵叔,研究进展如何?”

        赵龙腾哈哈一笑,心中的兴奋一下子被释放了出来!

        “我们经过近一年的研究,成功产出了157纳米的光刻机!”

        赵岂年哗一声站了起来,有点懵了!

        “怎么……怎么这么快?”

        赵龙腾:“哈哈……我们中国人在科研上,什么时候比外国人差?”

        “我们不都追赶上来了?”

        “况且,这一次,在光刻机上,我们处在同一个起跑线,最多比国外落后一点点!!”

        “有了解决了方案,超过他们非常正常!!”

        赵岂年也抑制不住自己内心的激动,这离他称霸光刻机领域又前进了大大的一步!

        芯片产品需要至少  1-3  年时间,由前后道多家厂商通力磨合,才能产出优秀的芯片!

        一旦提前,早量产,就比意味着多了更多时间去改善问题和提高良率。

        因此,光刻机领域,是赢家通吃!

    

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